金属层图形的优化方法及系统、计算机可读介质、图形修正方法

本发明提供了一种金属层图形的优化方法及系统、计算机可读介质、图形修正方法，属于半导体领域。该金属层图形的优化方法包括选取金属层图形中符合设计规则的最小图形；扩大处理之后的最小图形满足设计规则；将扩大处理之后的最小图形优化为条状图形，其中，所述条状图形的面积与扩大处理之后的最小图形的面积相同，所述条状图形的长宽比满足设定阈值。本发明通过将金属层图形中符合设计规则的最小图形扩大处理之后，优化成条状图形，条状图形的面积与最小图形扩大处理之后的面积相同，能够保持了图案主体的正常形态，避免金属层图形形成的轮廓失真，提高元件之间接触的容错值，更好地实现各个元件之间的电子传输，提升芯片良率。