一种光芯片的CVD金刚石散热结构及其制备方法

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一种光芯片的CVD金刚石散热结构及其制备方法
申请号:CN202510511387
申请日期:2025-04-23
公开号:CN120048807A
公开日期:2025-05-27
类型:发明专利
摘要
本发明提供了一种光芯片的CVD金刚石散热结构及其制备方法,涉及热沉片技术领域,结构包括多片热沉片;所述热沉片设置在光模块芯片顶层封装材料砷化镓上;各个所述热沉片之间设置有横向间距和纵向间距;各个所述热沉片构成栅格式结构。本发明借助砷化镓的电子特性和光电特性将其作为光刻基底,借助金刚石的高导热性将其作为热沉片生长在光模块芯片上。本发明在光模块芯片上添加金刚石热沉片可以满足大功率器件的散热需求,显著提高芯片的散热效果,有效地降低光模块芯片的温度,从而降低器件的损耗。
技术关键词
封装材料 砷化镓 散热结构 光模块 气相沉积技术 光芯片 格式结构 金刚石热沉片 沉积金刚石薄膜 控制衬底温度 刻蚀气体 间距 光刻胶薄膜 金刚石生长 去胶技术 原子力显微镜
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