一种工业大数据治理方法及系统

本发明公开一种工业大数据治理方法及系统，主要针对半导体制造领域。该方法先通过在设备安装多种传感器采集工艺参数和设备运行数据，经预处理后，利用时间序列分析与小波变换提取光刻环节数据的波动特征，结合历史数据和工艺原理构建光刻胶厚度波动模型。依据此模型，采用改进的PID控制算法制定并执行波动抑制策略，稳定光刻胶厚度。同时，将相关数据分类存储以便查询调用。本发明有效解决了半导体制造中数据治理和工艺控制难题，提升数据质量，保障工艺稳定性，提高生产效率和产品质量，推动半导体制造行业智能化发展。