一种用于InterfaceGrid网格模型的光线投射体绘制方法

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一种用于InterfaceGrid网格模型的光线投射体绘制方法
申请号:CN202510553967
申请日期:2025-04-29
公开号:CN120495497B
公开日期:2025-11-18
类型:发明专利
摘要
本发明提供一种用于InterfaceGrid网格模型的光线投射体绘制方法,涉及光线投射体绘制领域,包括:将InterfaceGrid网格模型从显示存储转换为InterfaceGridBlock的隐式存储结构,传输到GPU,并进行分部存储;根据隐式存储纹理集,使用顶点着色器将纹理的顶点坐标进行坐标变换,以得到变换后的顶点坐标;将变换后的顶点坐标传输到片段着色器,并结合隐式存储纹理集,通过纹理采样技术得到当前片段对应的隐式存储信息;根据当前片段对应的隐式存储信息,进行InterfaceGrid网格模型体绘制,并查找得到InterfaceGrid网格模型在当前采样点的属性;更新采样点的颜色和透明度,并使用光照模型进行合成,得到累积的体绘制颜色;输出到屏幕上,完成InterfaceGrid模型的体可视化。本发明用以解决传统三维地质模型表达能力不足的问题。
技术关键词
光线投射体绘制 网格模型 片段着色器 纹理 坐标 顶点着色器 颜色 面片 采样技术 存储结构 光照 透明度 索引 三维地质模型 柱体单元 数据 屏幕 射线
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