优化OPC修正目标图形的方法及系统

本发明提供一种优化OPC修正目标图形的方法及系统，优化OPC修正目标图形的方法包括：输入初始图形，对初始图形进行预处理，得到第一目标图形；基于第一目标图形，进行第一预设轮次的OPC修正，得到第一模拟图形；对第一目标图形和第一模拟图形进行逻辑运算，得到第二目标图形；基于第二目标图形，进行第二预设轮次的OPC修正，得到第二模拟图形，并以第二模拟图形作为输出结果。如此配置，得到的最终输出图形，能够保证在OPC修正过程中，整个图形特别是具有大量拐角或连续拐角的位置处的修正量在合理范围内，提高OPC修正的准确率的同时，能够减小掩模图形与硅片图形的变形与偏差，进而保证芯片的性能和成品率。