基于掩膜优化的低照度光谱成像系统及方法

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基于掩膜优化的低照度光谱成像系统及方法
申请号:CN202510559989
申请日期:2025-04-30
公开号:CN120084433A
公开日期:2025-06-03
类型:发明专利
摘要
本发明涉及计算摄像学领域,具体提出一种基于掩膜优化的低照度光谱成像系统及方法,该系统中成像模块包括掩膜单元和采集单元,采集单元包括色散元件和单光子图像采集设备,成像模块对低照度下的原始光谱立方体进行成像以得到测量值;重建网络模块包括训练好的光谱重建网络模型;光谱重建网络模型包括编码掩膜层、器件仿真层和光谱恢复层,器件仿真层仿真采集单元;训练好的光谱重建网络模型的编码掩膜层控制掩膜单元生成优化掩膜,训练好的光谱重建网络模型的光谱恢复层对成像模块输出的测量值进行重建以得到对应的重建光谱立方体。根据本发明的系统能够提升低照度条件下快照光谱成像系统的成像精确度。
技术关键词
光谱成像系统 编码掩膜 掩膜单元 光谱成像方法 成像模块 器件仿真 照度 立方体 采集单元 神经网络结构 图像采集设备 色散元件 网络模块 数字微镜器件 深度学习模型 快照 数据
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