基于遗传算法的电子束光刻版图分级校正方法

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基于遗传算法的电子束光刻版图分级校正方法
申请号:CN202510583710
申请日期:2025-05-07
公开号:CN120447298A
公开日期:2025-08-08
类型:发明专利
摘要
本发明是一种基于遗传算法的电子束光刻版图校正方法,旨在通过优化版图设计提升曝光后图形的质量。本方法先读取待校正版图划分为多个矩形区域,并根据预设的像素大小映射为版图矩阵;然后计算能量分布矩阵,调整各矩形区域的尺寸进行全局校正至收敛;最后针对调整区域进行离散化填充,利用遗传算法以像素为种群个体,通过迭代优化选取最优像素分布,从而实现局部区域的精细化校正。同时在解空间采用上下采样缩小搜索范围,并采用动态适应度函数减少迭代次数。本发明利用简单校正和精准校正实现了版图的分级优化,具有高校正精度和高计算效率的特点。
技术关键词
光刻版图 遗传算法 校正方法 电子束 列表 非曝光区域 扫描线算法 顶点 像素 多边形 点扩散函数 矩阵 容许误差 坐标 矩形 表达式 动态
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