摘要
本发明是一种基于遗传算法的电子束光刻版图校正方法,旨在通过优化版图设计提升曝光后图形的质量。本方法先读取待校正版图划分为多个矩形区域,并根据预设的像素大小映射为版图矩阵;然后计算能量分布矩阵,调整各矩形区域的尺寸进行全局校正至收敛;最后针对调整区域进行离散化填充,利用遗传算法以像素为种群个体,通过迭代优化选取最优像素分布,从而实现局部区域的精细化校正。同时在解空间采用上下采样缩小搜索范围,并采用动态适应度函数减少迭代次数。本发明利用简单校正和精准校正实现了版图的分级优化,具有高校正精度和高计算效率的特点。
技术关键词
光刻版图
遗传算法
校正方法
电子束
列表
非曝光区域
扫描线算法
顶点
像素
多边形
点扩散函数
矩阵
容许误差
坐标
矩形
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