发光结构及其制备方法

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发光结构及其制备方法
申请号:CN202510584328
申请日期:2025-05-07
公开号:CN120166825A
公开日期:2025-06-17
类型:发明专利
摘要
本申请提供一种发光结构及其制备方法,所述制备方法包括:制备发光芯片晶圆,所述发光芯片晶圆包括衬底、衬底上方的外延层和外延层上方的发光芯片,所述发光芯片的数量v为多个,各发光芯片之间具有隔离结构,所述隔离结构底部与所述衬底接触,将相邻发光芯片下方的外延层断开;在所述发光芯片晶圆上制备色转换结构;将所述发光芯片晶圆切割成发光芯片晶粒;另行制备驱动芯片晶粒,将所述发光芯片晶粒和所述驱动芯片晶粒键合,得到所需的发光结构。本申请发光结构及其制备方法,全程只有一次单芯片键合,对位不容易出现累积偏差,整体工艺难度较低,能够确保制备得到的发光结构产品品质较好,性能较好。
技术关键词
发光芯片 发光结构 驱动芯片 隔离结构 外延 量子点 晶圆 衬底 黑胶 上沉积 基板 光刻工艺 玻璃片 焊料 偏差 电极
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