工作台运动参数校正方法和半导体制造设备

本发明提供了一种工作台运动参数校正方法和半导体制造设备，校正方法包括控制工作台沿设定直线方向移动，并测量出工作台在预设参考坐标系中第一坐标轴方向上的校正样本行程和第二坐标轴方向上的偏摆样本位移；其中第一坐标轴方向和设定直线方向之间是映射对应的；根据校正样本行程和偏摆样本位移，确定设定直线方向相对于第一坐标轴方向的偏摆参数；根据偏摆参数构建偏摆校正策略，偏摆校正策略用于对工作台在第一坐标轴方向或第二坐标轴方向上的目标移动量进行校准。本方法实现了对工作台在第一坐标轴方向或第二坐标轴方向上的目标坐标或目标移动量的补偿和校准，达到了实现提高工作台运动控制精度的效果。