基于聚类分析与自适应分层的三维模型水印方法及系统

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基于聚类分析与自适应分层的三维模型水印方法及系统
申请号:CN202510644317
申请日期:2025-05-19
公开号:CN120672549A
公开日期:2025-09-19
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种基于聚类分析与自适应分层的三维模型水印方法及系统。本发明提出一种基于聚类分析与自适应分层的三维模型水印方法。该方法通过聚类提取三维模型特征点构建局部坐标系,经主成分分析对齐模型主方向至坐标轴,实现空间标准化;沿主方向自适应分层并设置标记面片,利用相邻层顶点数量差异嵌入水印比特流,最后通过坐标逆变换恢复原始坐标系。本发明方法结合三维模型的分层策略,通过控制相邻层的顶点数量差异进行水印嵌入,使得水印在几何变换和局部编辑下仍能保持可提取性,适用于三维数据的版权保护和完整性验证。
技术关键词
水印方法 顶点 水印嵌入 坐标系 嵌入水印信息 特征点 面片 比特流 计算机电子设备 三维模型特征 标记 协方差矩阵 成分分析 特征值 水印系统 分层策略
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