一种应用于温室的地槽式种植栽培管理系统

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一种应用于温室的地槽式种植栽培管理系统
申请号:CN202510660811
申请日期:2025-05-22
公开号:CN120579939A
公开日期:2025-09-02
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种应用于温室的地槽式种植栽培管理系统,属于作物种植技术领域,具体包括:参数采集模块,用于实时监测种植槽内根系吸肥行为,种植槽铺设有复合膜,通过非侵入式传感技术获取根系代谢活性参数;需求划分模块,用于根据作物生长阶段划分幼苗期、营养生长期及生殖生长期,建立各阶段根系吸水吸肥的差异化需求模型;指令生成模块,用于构建排水频率自适应调整策略,将根系代谢活性参数、基质渗透压与环境蒸发速率进行多维度关联分析,生成与生长阶段匹配的排水时序控制指令;排水控制模块,用于根据所述排水时序控制指令,种植槽底部放置有穿孔排水盲管,通过分区域梯度控制排水阀组的协同动作;本发明实现了科学的排水管理。
技术关键词
栽培管理系统 时间序列预测模型 成分分析装置 孔隙水压力 温室 根际微环境 种植槽 偏最小二乘回归算法 控制排水阀 电化学传感器阵列 灰色关联度分析法 分布式光纤传感技术 速率 生物阻抗数据 调控单元 压力传感阵列 作物种植技术 阶段 三维点云重建 电极表面修饰
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