一种设计规则检测模块、方法、介质、设备及PDK系统

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一种设计规则检测模块、方法、介质、设备及PDK系统
申请号:CN202510667901
申请日期:2025-05-22
公开号:CN120633568A
公开日期:2025-09-12
类型:发明专利
摘要
本发明涉及半导体制造技术领域,特别涉及一种设计规则检测模块、方法、介质、设备及PDK系统。该模块包括获取集成电路版图的获取单元、识别单元、验证单元、预警单元。识别单元用于识别金属与半导体接触界面具有寄生肖特基接触的位置,并识别接触界面的输出端电位,验证单元用于根据接触界面存在电位差时,基于设计规则验证接触界面附近是否存在距离和电位差不符合预设规则的低阻元件;预警单元用于在存在距离和电位差不符合预设规则的低阻元件时,警示修正接触界面的输出端电位和/或修正低阻元件与接触界面的距离。通过上述设置,能够更好地于版图上指导解决如何避免寄生肖特基二极管效应发生,提高集成电路制造的可靠性,避免电路失效。
技术关键词
集成电路版图 肖特基二极管 界面 元件 计算机执行指令 输出端 半导体 检查集成电路 识别集成电路 版图数据库 电路拓扑结构 图像识别算法 内阻 模块 检测组件 可读存储介质 电流 处理器
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