一种氧化镓芯片通孔设计方法、氧化镓芯片及制备方法

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一种氧化镓芯片通孔设计方法、氧化镓芯片及制备方法
申请号:CN202510671798
申请日期:2025-05-23
公开号:CN120524909A
公开日期:2025-08-22
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种氧化镓芯片通孔设计方法、氧化镓芯片及制备方法,所述设计方法包括,对氧化镓芯片进行电学、传热和力学分析,构建多物理场模型;根据多物理场模型对氧化镓芯片进行设计优化,得到优化后的参数。本发明通过构建多物理场模型对氧化镓芯片的结构进行设计优化,实现了氧化镓芯片的高频信号传输损耗降低、散热效率提升的突破性优化。基于本发明的设计方法,能够显著提高氧化镓芯片在高频信号传输、热管理和长期可靠性方面的综合性能,具有重要的工业应用价值和推广前景。
技术关键词
氧化镓 通孔设计方法 芯片 仿真模型 电磁场仿真 参数 物理 半导体器件 热管理 构型 力学 接触角 综合性 粗糙度 基板 取向 频段 电镀 抛光
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