一种抗过流双柔性缓冲层封装SiC MOSFET器件

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一种抗过流双柔性缓冲层封装SiC MOSFET器件
申请号:CN202510674565
申请日期:2025-05-23
公开号:CN120545267A
公开日期:2025-08-26
类型:发明专利
摘要
本发明属于功率半导体器件封装技术领域,尤其涉及一种抗过流双柔性缓冲层封装SiC MOSFET器件,本发明中,通过在SiC MOSFET芯片的上下两侧分别设置上缓冲层以及下缓冲层,在上缓冲层与下缓冲层相互远离的一侧分别设置上DBC基板以及下DBC基板,上缓冲层、下缓冲层、上DBC基板以及下DBC基板能够提供良好的热导率和电气性能,同时保证热‑机械可靠性,从而更好的将SiC MOSFET芯片产生的热量散出,降低SiC MOSFET芯片的温度,提高功率模块的可靠性。同时,双面散热结构取消了引线键合而使用上缓冲层以及下缓冲层来承担电流流动,大大减小了模块的寄生电感和模块的体积。
技术关键词
SiCMOSFET器件 缓冲层 基板 功率半导体器件封装技术 芯片 焊料 柔性 石墨 耐高温材料 双面散热结构 隔离结构 栅极 金刚石 空隙 面板 功率模块 端子 阵列 电感
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