全自动大尺寸单面研磨抛光设备及其控制方法

本发明涉及一种全自动大尺寸单面研磨抛光设备及其控制方法，全自动大尺寸单面研磨抛光设备包括：工作台，包括机架与水槽；移动机构，包括第一、第二、第三与第四移动模块，第一与第二移动模块分别固定安装于工作台两侧，第三移动模块固定安装于机架且穿过隔断部设置的避让槽口，第四移动模块的两端分别与第一及第二移动模块传动连接，第四移动模块与第三移动模块滑动连接，第一移动模块与第二移动模块用于驱动第四移动模块纵向移动；上研磨抛光盘模块，与第四移动模块传动连接，第四移动模块驱动上研磨抛光盘模块横向移动至研磨腔或修整腔；修整模块，安装于机架且部分位于修整腔；清洗组件，安装于修整腔可移动。