一种基于半导体减薄工艺后产品追溯方法

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一种基于半导体减薄工艺后产品追溯方法
申请号:CN202510731131
申请日期:2025-06-03
公开号:CN120670497A
公开日期:2025-09-19
类型:发明专利
摘要
本发明涉及合金涂层技术领域,公开了一种基于半导体减薄工艺后产品追溯方法,以下步骤:在晶圆进入减薄工艺之前,采用激光打标机作为标识生成设备,对每一片晶初始标识符;运用研磨机对晶圆进行机械研磨将晶圆减薄至最终厚度;为经过减薄工艺处理后的晶圆,通过哈希算法生成一个新的串接标识符markid;将新生成的markid实时更新到数据库中的制程履历表mes_ret_lot中。通过采用PostgreSQL14版本数据库,借助SQL语句在1秒内完成数据更新操作,依据markid快速检索和整合制程履历,可以快速检索和整合制程履历,缩短了分析时间,使得追溯过程更加高效快捷的效果。
技术关键词
半导体减薄工艺 产品追溯方法 标识符 信息展示模块 支持向量机算法 激光打标机 制程 数据更新 哈希算法 合金涂层技术 研磨机 建立匹配模型 报告 晶圆 生成设备 支持自定义 研磨盘 数据传输模块
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