一种真空镀膜机电子枪控制方法及系统

本发明属于真空镀膜技术领域，具体的说是一种真空镀膜机电子枪控制方法及系统，该控制方法包括在镀膜过程中，持续采集并融合处理反映电子枪工作状态及蒸发过程的关键实时参数，基于关键实时参数，实时评估当前镀膜状态，并结合预设的镀膜工艺要求，通过内置的决策机制动态生成下一控制周期的电子束控制目标指令集，发送至电子枪的功率控制器、聚焦线圈控制器和扫描线圈控制器，驱动电子枪实时调整其功率输出、聚焦状态和扫描运动，通过蒸发速率的精准稳定控制：通过功率与蒸发速率的强闭环，有效应对物料特性变化；动态规划的扫描路径能主动补偿坩埚热场不均匀性，结合聚焦调节优化束斑能量分布，使得热场均匀性的显著提升。