摘要
本发明公开了一种高质量磷硅玻璃及其制备方法,涉及半导体芯片加工技术领域。一种高质量磷硅玻璃的制备方法,包括如下步骤:将硅片进行热氧化处理,在硅片表面沉积二氧化硅膜;将沉积二氧化硅膜的硅片沉积含磷的多晶硅膜;对硅片高温扩散,再取出并去除表面多晶硅,得到磷硅玻璃。本发明解决了磷硅玻璃低击穿的问题。
技术关键词
磷硅玻璃
硅片
二氧化硅膜
多晶硅厚度
混合气
半导体芯片
气氛
炉管
氢气
氧气
氮气
压力
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