基于金属屏蔽环对单端硅通孔结构进行优化的方法

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基于金属屏蔽环对单端硅通孔结构进行优化的方法
申请号:CN202510751935
申请日期:2025-06-06
公开号:CN120633190A
公开日期:2025-09-12
类型:发明专利
摘要
本发明涉及一种基于金属屏蔽环对单端硅通孔结构进行优化的方法,所述方法包括如下步骤:环信号通孔设置接地的金属屏蔽环,用于抑制电磁泄露与耦合串扰;构建RLCG等效电路模型,用于描述硅通孔在频域下的信号传输行为。本发明能够有效抑制相邻通道之间的电磁干扰,降低耦合串扰影响,从而提升信号传输质量与系统的整体可靠性。
技术关键词
等效电路模型 趋肤深度 通孔结构 金属导体电阻 接地屏蔽 表达式 变形监测方法 环形电感 电流导体 信号 趋肤效应 频率 建模方法 电磁 指令
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