电磁辐照下静电放电保护的CMOS电路的效应分析方法

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电磁辐照下静电放电保护的CMOS电路的效应分析方法
申请号:CN202410762490
申请日期:2024-06-13
公开号:CN118780228A
公开日期:2024-10-15
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种电磁辐照下静电放电保护的CMOS电路的效应分析方法,包括:根据ESD防护器件的参数进行建模得到几何结构模型,建立等效物理模型;利用有限元计算法对等效物理模型的网格结构进行剖分,以使得剖分后的等效物理模型保持收敛;根据剖分后的等效物理模型得到仿真等效电路模型;通过外加不断改变相关参数的电磁脉冲信号,根据相应模型分析仿真等效电路模型中ESD防护器件的载流子变化情况、电流密度分布情况以及温度分布情况,从而得到ESD防护器件的潜在失效位置;使得相关人员能够进行对应的可靠性加固;根据电磁脉冲信号的脉宽变化趋势和对应的峰值温度曲线,得到ESD防护器件的电热效应损伤,弥补了本领域相关技术的空白。
技术关键词
ESD防护器件 效应分析方法 静电放电保护 等效电路模型 电磁 DTSCR器件 物理 模型分析仿真 损伤功率阈值 参数 热传导方程 网格 表达式 电子 NMOS管 仿真软件 信号 有源区
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