一种基于PMMA基底的滤光膜及其制备方法与应用

本发明公开了一种基于PMMA基底的滤光膜及制备方法，旨在解决一种有机玻璃基底表面实现近红外宽带深截止与可见光高效透过兼顾、以及膜层复杂度过高导致的制备难题。本发明通过优选宽带隙高透明材料体系，结合组合优化算法设计多层膜系结构，并采用复合缓冲层匹配、光控/晶控复合监控、应力释放等技术，实现了在PMMA基底上制备兼具近红外宽带深截止(665‑950nm透过率≤1％)与可见光高效透过(410‑640nm平均透过率≥80％)的薄膜制备。通过优化的前处理工艺(包括胶层固化、镀膜前真空恒温时效处理)以及后处理工艺(镀膜后恒温时效处理)，显著提升了膜层牢固度与光谱性能一致性。该发明可广泛应用于光学成像、显示及传感系统。