基于校准磁场生成系统矩阵的磁粒子成像重建方法

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基于校准磁场生成系统矩阵的磁粒子成像重建方法
申请号:CN202510772302
申请日期:2025-06-11
公开号:CN120339443B
公开日期:2025-08-29
类型:发明专利
摘要
本发明属于磁粒子成像技术领域,涉及了基于校准磁场生成系统矩阵的磁粒子成像重建方法,旨在解决传统磁粒子成像重建方法在非对称双边结构磁粒子成像设备(A‑MPI)中适用性差、无法任意区域成像的问题。本发明包括:对成像区域进行网格划分,校准磁场强度,获得各点磁场梯度分布;按照数理计算的方式获得理论系统矩阵;随机移动无磁场点的位置进行扫描,获得实测磁场梯度分布和系统矩阵并构建数据集;基于仿真系统扩充数据集;构建深度学习模型,将扩充数据集、实测数据输入训练深度学习模型;输入任意位置的理论系统矩阵,利用训练好的模型获得精确的系统矩阵。本发明在A‑MPI设备下可获取到任意位置的系统矩阵,从而实现任意位置成像。
技术关键词
成像重建方法 矩阵 生成系统 磁粒子成像 校准 仿真系统 切比雪夫 双边结构 磁场系统 网格 多项式 训练深度学习模型 数据 网络 磁纳米粒子 频率 理论
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