掩模图像生成方法、装置、电子设备和存储介质

本申请公开了一种掩模图像生成方法、装置、电子设备和存储介质，属于光刻领域。用于光刻机的掩模图像生成方法，包括：获取多个目标工艺参数；将多个目标工艺参数输入至目标网络模型的多层感知层，获取多层感知层输出的目标重构图像；将目标重构图像、目标期望掩模图像和目标照明图像输入至目标网络模型的生成对抗网络层，获取生成对抗网络层输出的目标掩模图像。本申请的用于光刻机的掩模图像生成方法，能够适用于不同的光刻机以及光刻环境，进行自适应调整，从而得到更加精准的掩模图像，提高光刻系统的分辨率，具有较高的灵活性和普适性。