摘要
本发明公开了一种芯片上法拉第笼,该芯片上法拉第笼包括:芯片上的衬底层和金属层;衬底层包括深N阱,第一N阱、第二N阱、第一P阱和第二P阱;衬底层的第一N阱、第二N阱分别与深N阱电连接;通过离子注入工艺在衬底层形成深N阱,N阱和P阱,其中N阱注入N型掺杂,P阱注入P型掺杂;金属层与衬底层的第一N阱、第二N阱、第一P阱和第二P阱连接;金属层之间的通孔为交错排布。本发明可实现噪声和电磁干扰双向隔离。
技术关键词
法拉第笼
芯片
离子注入工艺
衬底层
集成开关器件
三维连接结构
阱结构
立体环绕式
电磁屏蔽材料
高电位
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