芯片上法拉第笼

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芯片上法拉第笼
申请号:CN202510789072
申请日期:2025-06-13
公开号:CN120809719A
公开日期:2025-10-17
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种芯片上法拉第笼,该芯片上法拉第笼包括:芯片上的衬底层和金属层;衬底层包括深N阱,第一N阱、第二N阱、第一P阱和第二P阱;衬底层的第一N阱、第二N阱分别与深N阱电连接;通过离子注入工艺在衬底层形成深N阱,N阱和P阱,其中N阱注入N型掺杂,P阱注入P型掺杂;金属层与衬底层的第一N阱、第二N阱、第一P阱和第二P阱连接;金属层之间的通孔为交错排布。本发明可实现噪声和电磁干扰双向隔离。
技术关键词
法拉第笼 芯片 离子注入工艺 衬底层 集成开关器件 三维连接结构 阱结构 立体环绕式 电磁屏蔽材料 高电位 金属屏蔽层 传感器阵列 连续板 嵌套 电压 布局 网格 通孔 电气
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