一种基于遗传算法的双层衍射光学元件设计方法

一种基于遗传算法的双层衍射光学元件设计方法，涉及遗传算法技术领域，为了解决现有的DLDOE设计方法难以设计出在宽波段和大角度范围内高衍射效率的DLDOE的问题，该方法包括以下步骤：步骤一，基于DLDOE的衍射效率基本理论选择参与优化设计的优化变量；步骤二，构建平均值‑标准差双目标评价模型；步骤三，建立含有基于可加工材料库的色散特性约束的适应度函数；步骤四，构建具有余弦退火与周期重启优化策略的遗传算法；步骤五，基底材料匹配与更新微结构高度。本发明将全局优化算法中的遗传算法引入到DLDOE优化设计方法中，实现DLDOE的最优解设计，能够设计出宽波段和大角度范围内高衍射效率的DLDOE。