2.5D衬底制作方法和封装结构

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2.5D衬底制作方法和封装结构
申请号:CN202510838330
申请日期:2025-06-23
公开号:CN120356827B
公开日期:2025-09-30
类型:发明专利
摘要
本申请提供的一种2.5D衬底制作方法和封装结构,该2.5D衬底制作方法包括:提供贴装有金属部件和中介层的第一载具;中介层内设有金属柱;在第一载具上形成包覆金属部件和中介层的保护层。在金属部件上形成第一凹槽。研磨中介层和保护层,以使中介层和保护层表面低于金属部件的表面。在中介层和保护层的表面形成具有第一开口的第一介质层;第一开口露出金属柱。在第一开口内形成种子层;种子层延伸至金属部件表面并填充第一凹槽。在种子层上形成布线层。可以提升种子层和第一介质层的结合力,以及防止蚀刻过程中对中介层侧壁的腐蚀,提高封装质量和精度。
技术关键词
衬底制作方法 中介层 种子层 封装结构 金属部件表面 保护胶 介质 重布线层 光刻胶 金属镀层 焊点 凹槽 保护膜 凸点 电镀引线 显影工序 芯片
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