一种长效高稳定性氮化硅蚀刻液及其制备方法与应用

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一种长效高稳定性氮化硅蚀刻液及其制备方法与应用
申请号:CN202510899121
申请日期:2025-07-01
公开号:CN120888303A
公开日期:2025-11-04
类型:发明专利
摘要
本发明提供一种长效高稳定性氮化硅蚀刻液及其制备方法与应用,所述长效高稳定性氮化硅蚀刻液包括重量配比如下的各组分:氟代苯基烷基胺1‑5份;浓磷酸80‑90份;超纯水13‑17份。所述氟代苯基烷基胺为单氟取代苯基胺、双氟取代苯基胺、单氟取代苄基胺和双氟取代苄基胺中的一种或多种。本发明还公开了长效高稳定性氮化硅蚀刻液的制备方法及应用。本发明长效高稳定性氮化硅蚀刻液同时实现了氮化硅的高效蚀刻、副产物的溶解控制、蚀刻液的稳定性提升以及氧化硅的选择性保护,在3D闪存芯片氮化硅蚀刻领域具有非常良好的应用前景和大规模工业化推广潜力。
技术关键词
蚀刻液 烷基胺 苄基 苄胺 超纯水 苯胺 蚀刻氮化硅 二氟 闪存芯片 磷酸 氧化硅 副产物 氮气
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