一种铝栅抛光后清洗液及其制备方法与应用

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一种铝栅抛光后清洗液及其制备方法与应用
申请号:CN202510527403
申请日期:2025-04-25
公开号:CN120399808A
公开日期:2025-08-01
类型:发明专利
摘要
本发明涉及一种铝栅抛光后清洗液,按照重量份计算,包括如下组分:功能剂1‑10份;螯合剂1‑10份;氧化剂0.1‑0.5份;超纯水80‑90份。本发明还公开上述清洗液的制备方法与应用。本发明采用的功能剂分子结构具有两亲性,一端为极性亲水基团,另一端为非极性烃链疏水基团;氧化剂在铝栅表面发生氧化反应生成氧化物的钝化层,功能剂在铝栅表面形成物理吸附,起到协同保护作用,降低铝栅腐蚀速率。螯合剂中的羧基还可以与氧化剂和功能剂中的苯环形成p‑π共轭结构,在铝栅表面产生致密的吸附膜从而抑制腐蚀。
技术关键词
抛光后清洗液 超纯水 螯合剂 氧化剂 四氢呋喃 有机过氧化物 嘌呤 二氢 壬基苯基 甲基 氨基 共轭结构 亲水基团 芯片 呋喃酮 吸附膜 异丙苯 两亲性 烷基苯 亚乙基
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