摘要
本发明提供一种用于去除Si孔侧壁损伤层的蚀刻液及其制备方法与应用,所述用于去除Si孔侧壁损伤层的蚀刻液包括重量配比如下的各组分:氟化试剂0.5‑3份;硝酸20‑70份;醋酸30‑50份;渗透润湿剂1‑5份;反应扩散剂1‑10份。所述氟化试剂为亲核氟化试剂,所述渗透润湿剂为Gemini表面活性剂,所述反应扩散剂为碳链修饰的亚硝基连二硫酸。本发明用于去除Si孔侧壁损伤层的蚀刻液能有效去除TSV工艺中Si孔侧壁损伤层。本发明蚀刻液通过分段蚀刻芯片,能提高液体置换率,加快传质,促进孔内均一蚀刻,形成孔内均一形貌。
技术关键词
蚀刻液
超纯水清洗
润湿剂
二乙胺基三氟化硫
侧壁损伤层
氢氧化钡
硫酸
二氧化锰
表面活性剂
芯片
醋酸
硝酸
混合液
扩散剂
氮气
氧化层
异丙醇
溶液
分段
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