一种芯片清洗液及其制备方法与应用

本发明涉及一种芯片清洗液，按照重量份计算，包括如下组分：复合功能剂2‑5份；清洗助剂0.5‑2份；螯合剂1‑8份；有机碱10‑20份；溶剂60‑90份。本发明还公开上述清洗液的制备方法与应用。本发明采用复合功能剂，羰基类物质与一级胺发生反应，形成中间的α‑羟基胺，随后通过脱水反应形成席夫碱结构。其具有稳定的长程有序框架和稳健的p‑p共轭结构，不仅具有特殊的结构稳定性，而且通过C=O和C=N官能团加入高密度活性位点，为螯合金属离子提供了有效的途径。同时，与金属表面生成的保护膜，可有效阻止氧气和水分接触金属表面，降低腐蚀。