摘要
本发明涉及磁流变抛光技术领域,尤其涉及一种基于电磁流量计感知的磁流变抛光设备及其抛光方法,通过电磁流量计监测抛光过程中磁流变液流量的变化,通过控制液体泵转速和控制磁铁位置或抛光轮位置实现磁流变液流量波动的粗精两级调节,使得每个抛光点的磁流变液流量波动符合高精度抛光要求,保证抛光过程中去除函数的恒定。本发明不需要额外的随动装置,设备成本更低,流量变化小,磁流变液流量波动更加平稳。
技术关键词
抛光元件
磁流变液
液体泵
电磁流量计
流变抛光设备
工业机器人位姿
抛光平台
抛光方法
磁流变抛光
磁铁
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