抛光头柔性膜的仿真优化方法、装置、设备、介质及产品

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抛光头柔性膜的仿真优化方法、装置、设备、介质及产品
申请号:CN202510941499
申请日期:2025-07-08
公开号:CN120805589A
公开日期:2025-10-17
类型:发明专利
摘要
本发明涉及化学机械拋光技术领域,公开了一种抛光头柔性膜的仿真优化方法、装置、设备、介质及产品,方法包括:获取抛光头抛光晶圆的几何模型,其中,几何模型包括抛光头的承载装置、抛光头的柔性膜、吸附于柔性膜上的晶圆和与晶圆的待抛光面接触的抛光垫,承载装置与柔性膜连接;将几何模型加载到有限元分析模型进行仿真分析,确定待抛光面在预设压力下的形变量;根据待抛光面的形变量,优化柔性膜的尺寸,以得到目标柔性膜。本发明通过仿真方式对设计的柔性膜结构进行性能的验证,验证通过后再进行投产,能够缩短研发周期和降低研发成本。
技术关键词
有限元分析模型 仿真优化方法 抛光头 柔性膜 承载装置 仿真分析 变量 网格 缩短研发周期 可读存储介质 处理单元 凹槽 指令 压力 尺寸 计算机程序产品 优化装置
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