摘要
本发明公开了基于红外聚焦检测的晶圆平面度快速判断方法,涉及半导体制造与检测技术领域,括以下步骤:在晶圆下方均匀布置四组红外检测组件,每组红外检测组件包括红外光源、半遮挡结构、凸透镜以及线性CMOS成像元件,红外光束经半遮挡后通过凸透镜汇聚成聚焦光束。本发明通过图像畸变识别与矢量分析,有效剔除因晶圆缺陷引起的光斑干扰,避免误判倾斜,提升检测准确性;同时构建倾斜方向与角度反馈机制,将图像偏移转化为精确控制指令,实现掩模版姿态的实时闭环调整,在高精度曝光场景中显著提升平行度控制能力与成品良率。
技术关键词
判断方法
平面度
光斑
模版
成像元件
检测组件
凸透镜
红外光源
运动机构
光束
遮挡结构
卷积神经网络模型
图像处理芯片
模式识别
运动控制系统
闭环控制系统
表达式
畸变特征
坐标
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