过渡金属发色团的高通用性设计方法、设备和存储介质

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过渡金属发色团的高通用性设计方法、设备和存储介质
申请号:CN202510983385
申请日期:2025-07-17
公开号:CN120496679B
公开日期:2025-10-10
类型:发明专利
摘要
本发明涉及计算化学领域,具体涉及过渡金属发色团计算设计过程中的通用性优化。本发明是通过以下技术方案得以实现的:过渡金属发色团的高通用性设计方法,包含如下步骤:建立分子数据库;采用计算模型对所述分子数据库的分子进行扫描计算,将计算结果符合筛选要求的分子视为待选分子,所述计算模型采用DFA;所述计算模型采用多种DFA进行计算。本发明的目的是提供过渡金属发色团的高通用性设计方法、设备和存储介质,在面对不同的设计系统,均可以设计金属发生团的功能分子;大幅度提升不同的金属发色团设计过程中,VHTS的输出结果的可靠性,为后续的AI模型训练提供更好的训练数据,从而提升AI模型输出的设计结果的准确度。
技术关键词
可执行程序代码 分子 双齿配体 发色团设计 存储器 设计系统 处理器 遗传算法 基础 可读存储介质 官能团 电子设备 计算机 元素 数据
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