一种基于宇生μ子像图的高精度超声成像识别方法

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一种基于宇生μ子像图的高精度超声成像识别方法
申请号:CN202511022462
申请日期:2025-07-24
公开号:CN120539283B
公开日期:2025-10-17
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种基于宇生μ子像图的高精度超声成像识别方法,步骤为:S1、生成宇生μ子成像特征图;S2、构建并训练核心缺陷检测网络,输出对宇生μ子成像特征图的缺陷区域进行识别的缺陷概率图;S3、对成像物体的缺陷区域进行超声成像,并进行彩色映射重建得到超声彩色图像;S4、分别获取宇生μ子成像特征图的非缺陷区域掩膜和超声彩色图像的缺陷区域掩膜,并经图像融合得到融合图像;该方法适用于大范围高精度的无损成像检测,其在利用宇生μ子可以做到大范围、无剂量透射成像的基础上,对缺陷区域进行有效识别并与缺陷区域的超声成像相融合,实现对局部缺陷位置的高精度成像,且兼具无损成像和完全无辐射的优势。
技术关键词
成像识别方法 成像特征 彩色图像 拼接模块 液体闪烁体 成像检测仪 边缘增强算法 输入端 图像重建算法 核心 彩色掩膜 积层 高频探头 网络 物体探测
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