摘要
本发明提供了一种槽内透镜及其制备方法和应用,涉及透镜制备技术领域。本发明提供的四种槽内透镜的制备方法,都只需使用光刻胶做ICP刻蚀掩膜,无需额外增加其他材料(例如氧化铝,氮化硅、二氧化硅、金属等)做掩膜层,在光刻过程中制作出槽内胶透镜作为掩膜,只需进行一次ICP刻蚀,即可将槽内胶透镜形貌转移至基底材料内部,极大地简化槽内透镜的制备工艺过程,大幅提升槽内透镜的良率和均匀性,降低成本。本发明制备的槽内透镜对输入的红外光信号起到准直、聚焦作用,能有效提升探测器芯片的灵敏度,在半导体光通讯、激光雷达等探测器芯片制造中具有很好的应用前景。
技术关键词
透镜
电感耦合等离子
热熔
柱状
负性光刻胶
正性光刻胶
探测器
基材
刻蚀掩膜
台阶
涂覆
光通讯
激光雷达
芯片
二氧化硅
红外光
氮化硅
系统为您推荐了相关专利信息
超短焦投影系统
胶合透镜
非球面透镜
TIR棱镜
反射碗
智能应急
照明装置
应急逃生通道
柱面透镜
智能芯片
轨道灯
圆形螺母
弹性定位机构
驱动轮
减速齿轮机构