一种用于光学系统垂向像质检测的测试模版、检测方法及光刻机

本申请提供了一种用于光学系统垂向像质检测的测试模版、检测方法及光刻机，属于光刻机技术领域。其中的测试模版中设有若干个菱形测试图案，且若干个菱形测试图案中的至少部分菱形测试图案被设计成具有不同的线宽和不同的延伸方向，这样可根据光刻机分辨率和工艺需求灵活选择不同类型的测试标记对其进行曝光，并通过利用曝光后菱形测试图案的尺寸变化，实现了最佳焦面、场曲、像面倾斜等垂向像质参数的精确测量，且直接利用测量得到的数据，计算方式简便，无繁琐算法。