超表面元件的设计方法及投射装置

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超表面元件的设计方法及投射装置
申请号:CN202511054552
申请日期:2025-07-29
公开号:CN120703973A
公开日期:2025-09-26
类型:发明专利
摘要
本申请公开了一种超表面元件的设计方法及投射装置,该设计方法包括:根据阵列光源及投射点阵确定超表面元件的准直相位和衍射相位;将准直相位与衍射相位叠加,获得超表面元件的复合相位,并将复合相位转换为超表面元件的结构尺寸;基于结构尺寸制备超表面元件,通过调整阵列光源与超表面元件的轴向间距以改变离焦量,测试不同离焦量条件下所述投射点阵的分布,确定使得投射点阵的分布符合预设要求的目标离焦量。利用本申请的超表面元件的设计方法,能够突破常规级次复制方法的能量调控限制,使投射点阵的各点能量能够按预设比例分布。
技术关键词
超表面元件 光源 阵列 投射装置 束腰 傅里叶算法 复制方法 坐标 间距 误差 周期 尺寸 波长 焦点 衬底 错位 参数
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