摘要
本发明涉及半导体制备技术领域,提出了一种光刻胶剥离液及其制备方法和应用。其中光刻胶剥离液包括如下组分:有机胺、有机溶剂和去离子水,所述有机胺包括1‑(咪唑并[1,2‑a]吡啶‑7‑基)乙胺和2‑(1‑三苯甲基‑1H‑咪唑‑4‑基)乙胺中的一种或两种组合物。本发明有机胺选择2‑(1‑三苯甲基‑1H‑咪唑‑4‑基)乙胺与1‑(咪唑并[1,2‑a]吡啶‑7‑基)乙胺,通过其双亲核位点的高效光刻胶分解能力,疏水和π‑π堆积协同作用以及空间位阻和化学表面配位作用,可以提高基板的洁净度,防止光刻胶以溶解态的形式吸附在基板上。
技术关键词
光刻胶剥离液
丙二醇甲醚醋酸酯
有机胺
剥离光刻胶
去离子水
乙胺
咪唑
三乙二醇单甲醚
乙基吡咯烷酮
基片
涂覆光刻胶
半导体芯片
吡啶
二甲基
基板
位点
系统为您推荐了相关专利信息
应变传感器
水凝胶
柔性触觉传感器
溶液
感知系统
重组胶原蛋白
碳碳双键
甲基丙烯酸缩水甘油酯
表面活性剂
微滴
放射性气溶胶
气溶胶发生器
定量方法
动物呼吸道
分布预测方法