摘要
本发明公开了一种用于半导体测量设备的融合标定方法,包括步骤:S1:执行光学导航仪标定,以建立CCD相机图像坐标系与工件台坐标系之间的第一转换关系;S2:执行SEM图像标定,以建立SEM图像坐标系与工件台坐标系之间的第二转换关系;S3:基于S1生成的第一转换矩阵和S2生成的第二转换矩阵,实现CCD相机图像坐标系、SEM图像坐标系与工件台坐标系的融合标定;其中,融合标定用于在半导体晶圆测量中,通过CCD相机的大视野进行初定位以区分重复图案,并通过SEM图像的高分辨率进行精定位,达到nm级精度。本发明具有显著提升半导体测量设备的精度、稳定性和效率等优点。
技术关键词
融合标定方法
坐标系
CCD相机
工件台
图像
大视野
融合标定系统
半导体晶圆
重复图案
定位算法
标记
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