一种半导体制造智能工厂光刻区动态调度方法及系统

AITNT
正文
推荐专利
一种半导体制造智能工厂光刻区动态调度方法及系统
申请号:CN202511080270
申请日期:2025-08-04
公开号:CN121032051A
公开日期:2025-11-28
类型:发明专利
摘要
本发明提出了一种半导体制造智能工厂光刻区动态调度方法及系统,该方法包括:初始化算法相关参数;种群初始化;计算适应度值;蜂鸟进行基于差分变异策略的随机引导觅食或基于高斯变异策略的领域觅食;动态监测种群停滞状态,超阈值触发全局重启机制,同时迭代次数若为预设迁移系数倍数时触发局部个体重置以迁移觅食;判断当前迭代次数是否小于算法最大迭代次数,若是,当前迭代次数加一,转入S4;否则,输出最优调度方案。本发明在保持了标准人工蜂鸟算法优化能力的基础上,融合了差分变异策略和高斯变异策略的优点,增强了算法的随机性和搜索能力,具有更好的全局寻优能力,为求解具有多约束、大规模特点的光刻区调度问题提供了有效的新途径。
技术关键词
掩膜版组合 光刻机 变异策略 动态调度方法 智能工厂 晶圆 动态调度系统 启发式策略 半导体 列表 索引 初始化算法 贪心策略 Sigmoid函数 输出模块 全局寻优能力
系统为您推荐了相关专利信息
1
一种基于多目标鲸鱼算法的水光互补系统优化调度方法
系统优化调度方法 水光互补系统 鲸鱼算法 层级 水电能源优化
2
自动化大语言模型安全测试方法、装置、服务器及存储介质
大语言模型 动态更新 测试方法 轮廓系数 代表
3
一种面向遥感观测的多星联合任务规划方法及系统
时间片 多星协同观测 规划 压缩编码方法 网格
4
用于DSA工艺生成先导图形OPC图形库的方法
掩膜图形 版图 光刻机 光刻胶模型 光刻技术
5
用于OPC建模的方法、设备和存储介质
OPC模型 光学邻近效应 光学邻近校正 接触式光刻机 测试版图
添加客服微信openai178,进AITNT官方交流群
驱动智慧未来:提供一站式AI转型解决方案
沪ICP备2023015588号