用于OPC建模的方法、设备和存储介质

根据本公开的示例实施例提供了用于光学邻近校正（OPC）建模的方法、设备和存储介质。该方法包括：初始化用于OPC模型的多个核函数，多个核函数至少包括第一类别的核函数和第二类别的核函数，第一类别的核函数指示随距离增加而衰减的光学邻近效应，第二类别的核函数指示随距离突变的光学邻近效应，距离指示目标版图上的目标点和邻近点之间的间距；校准多个核函数；以及基于经校准的多个核函数，构建OPC模型。以此方式，可以构建适用于接触式光刻机的OPC模型，从而可以补偿光刻的过程中的失真，使最终形成的图形更接近设计要求。