用于光学邻近校正的方法、电子设备及计算机可读存储介质

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用于光学邻近校正的方法、电子设备及计算机可读存储介质
申请号:CN202411574473
申请日期:2024-11-05
公开号:CN119065193B
公开日期:2025-03-14
类型:发明专利
摘要
本公开的实施例涉及用于光学邻近校正的方法、电子设备及计算机可读存储介质。该方法包括:确定光学邻近校正OPC模型中的光学信号部分;基于锚点以及光学信号部分生成OPC模型的简化模型;确定光学信号部分在OPC模型的信号部分中所占的比率;以及基于所述比率与校正循环中衰减系数的数值关系,以确定在所述校正循环中使用的模型对版图进行校正。本公开的技术方案能够节省计算资源并显著降低模型仿真及校正的时间。
技术关键词
OPC模型 光学邻近校正 仿真信号 版图 比率 锚点 可读存储介质 设备执行动作 电子设备 处理器 计算机 指令 数值 尺寸 关系 存储器 符号 坐标
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