半导体装置及半导体装置的制造方法

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半导体装置及半导体装置的制造方法
申请号:CN202410705768
申请日期:2024-06-03
公开号:CN119230503A
公开日期:2024-12-31
类型:发明专利
摘要
本发明涉及一种半导体装置及半导体装置的制造方法。实施方式提供一种抑制贴合垫端部的空隙的产生,且能够抑制EM耐性、SM耐性等变差的半导体装置。实施方式的半导体装置具备:第1元件构成部,具备设置在第1半导体衬底的第1金属垫、及连接于第1金属垫的至少一部分的第1电路;以及第2元件构成部,具备以与第1金属垫对应的方式设置且与第1金属垫接合的第2金属垫、及连接于第2金属垫的至少一部分的第2电路,且贴合在第1元件构成部。在实施方式的半导体装置中,第1金属垫及第2金属垫的至少一者具有设置在第1元件构成部与第2元件构成部的贴合面的凹陷部、及填充在凹陷部的碳膜。
技术关键词
半导体装置 金属垫 半导体衬底 芯片 存储单元阵列 元件 碳膜 金属材料 晶体管 对象 配线 绝缘材料 铜合金 控制电路 空隙
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