摘要
本发明涉及光电器件技术领域,公开了一种用于分布式反馈激光器芯片的划片方法及其应用,所述用于分布式反馈激光器芯片的划片方法包括:在所述分布式反馈激光器芯片的背面设置预设切割区域,在所述预设切割区域处进行干法刻蚀和湿法腐蚀,形成引导裂片的应力集中槽;所述应力集中槽具有楔形导向结构,所述楔形导向结构包括对称斜向收敛壁面。实施本发明的划片方法,形成引导裂片的应力集中槽,可以取代传统的机械划片的工艺,降低芯片表面产生微裂纹的可能性,进而改善传统机械损伤,提升芯片的划裂良率,并且降低对设备的依赖,降低成本。
技术关键词
分布式反馈激光器
划片方法
芯片
V型凹槽
应力
光电器件技术
衬底
涂覆光刻胶
旋涂工艺
刻蚀深度
刻蚀气体
槽体
壁面
微裂纹
速率
中心线
机械