真空镀膜设备参数优化方法和系统

本发明公开了真空镀膜设备参数优化方法和系统，涉及镀膜设备参数优化技术领域，输出每个种类的所有策略集，将每个种类所有策略集中目标值最大的参数设定策略与种类匹配，真空镀膜设备对产品进行镀膜时，优化系统选择与该产品种类匹配的参数设定策略进行镀膜，在实时镀膜过程中，结合真空镀膜设备状态以及环境因素判断是否需要对镀膜参数进行动态调节，并在需要进行动态调节时自动调节镀膜参数。该优化系统能够根据不同种类产品生成若干初始参数设定策略后，自动为各个种类产品寻找最优参数设定策略，并在实际镀膜过程中，结合设备以及环境因素来对镀膜参数进行动态调节，有效提高产品镀膜效果以及降低镀膜成本。