电子束描绘方法、电子束描绘装置以及记录有程序的非暂时性的有形的可读取的记录介质

本发明的一个方式提供一种能够校正通过因电子束的照射引起的不可逆的试样的变形而产生的射束照射位置、图案形成位置的位置偏移的电子束描绘方法、电子束描绘装置以及记录有程序的非暂时性的有形的可读取的记录介质。本发明的一个方式的电子束描绘方法计算对依赖于电子束的照射量分布而不可逆地变形的试样照射电子束来描绘图案的情况下的、因描绘处理结束后的试样的不可逆变形而产生的图案从设计上的位置起的第1位置偏移量，基于第1位置偏移量，计算校正对试样照射电子束而形成图案时的图案的位置或者电子束的照射位置的校正量，基于校正量，进行在试样上描绘上述图案的描绘处理。