改进的一种提高光刻机分辨率的方法

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改进的一种提高光刻机分辨率的方法
申请号:CN202410984711
申请日期:2024-07-22
公开号:CN119356036B
公开日期:2025-07-01
类型:发明专利
摘要
改进的一种提高光刻机分辨率的方法,本发明将光存储单元置于物镜和晶圆之间,曝光时,信号光经过透镜系统后,在光存储单元以原子自旋波的形式临时保存,光的能量转化为光存储单元介质原子的能量,随后所存储的光信息会按照原来的方向释放出来,可以视为1个理想的点光源,这个点光源按照原来的方向传播,由于传播的路径没有透镜孔径限制,有效孔径变大,对应的艾里斑变小,最小可分辨尺寸就会降低,当这个点光源达到晶圆时,艾里斑宽度变窄,光刻机的分辨率得到大幅提升,这样的益处在于对光刻机的孔径要求可以降低,为了实现同样的分辨率要求,透镜成像系统可以采用小的孔径,这无形中降低了制造的难度和成本。
技术关键词
存储单元 光学成像系统 光刻机 介质 透镜成像系统 分辨率 点光源 光谱烧孔 探测光 修正装置 透镜系统 光存储 控制光 信号光 望远镜 同位素 光刻胶 显微镜 回声 芯片
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