用于OPC模型的校准方法、电子设备及存储介质

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正文
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用于OPC模型的校准方法、电子设备及存储介质
申请号:CN202410757701
申请日期:2024-06-12
公开号:CN118627441A
公开日期:2024-09-10
类型:发明专利
摘要
本公开的实施例涉及用于OPC模型的校准方法、电子设备及存储介质。该方法包括:基于确定的仿真的设计版图中的各个测试图形的信号值与预定信号阈值的比较确定各测试图形的仿真结果;确定各测试图形的光刻图形的量测结果;基于各仿真结果分别与量测结果的比较确定成本函数的值,成本函数中包括与系数相关的惩罚项,该项用于由OPC模型选择的系数;响应于成本函数的值在预定范围内且OPC模型满足规避过拟合的预定规范,将OPC模型确定为最优模型。本公开的技术方案能够有效规避过拟合的发生,改善OPC模型的仿真精度。
技术关键词
光学邻近校正模型 OPC模型 光刻图形 信号值 版图 校准方法 设备执行动作 光信号 电子设备 处理器 可读存储介质 效应 指令 光刻胶 存储器 计算机 符号 方程
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