摘要
本公开的实施例涉及用于OPC模型的校准方法、电子设备及存储介质。该方法包括:基于确定的仿真的设计版图中的各个测试图形的信号值与预定信号阈值的比较确定各测试图形的仿真结果;确定各测试图形的光刻图形的量测结果;基于各仿真结果分别与量测结果的比较确定成本函数的值,成本函数中包括与系数相关的惩罚项,该项用于由OPC模型选择的系数;响应于成本函数的值在预定范围内且OPC模型满足规避过拟合的预定规范,将OPC模型确定为最优模型。本公开的技术方案能够有效规避过拟合的发生,改善OPC模型的仿真精度。
技术关键词
光学邻近校正模型
OPC模型
光刻图形
信号值
版图
校准方法
设备执行动作
光信号
电子设备
处理器
可读存储介质
效应
指令
光刻胶
存储器
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符号
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