光学器件及其制造方法

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光学器件及其制造方法
申请号:CN202410764820
申请日期:2024-06-13
公开号:CN118732098A
公开日期:2024-10-01
类型:发明专利
摘要
本发明提供了一种光学器件及其制造方法,在基底结构上形成第一介质层,通过图案化去除部分所述第一介质层以在所述第一介质层内形成开口,所述开口将所述第一介质层划分出至少一个第一子介质层,圆角化所述第一子介质层以形成微透镜,由此,所述微透镜可以在芯片厂同时制造完成,无需另外转移至专门的微透镜厂,从而可以提高生产效率,缩短生产周期。相应的,所形成的光学器件具有通过半导体工艺形成的微透镜,所述微透镜的致密性和均匀性更高,从而也能得到更高的光学效率。
技术关键词
光学器件 图形化掩膜层 基底结构 介质 微透镜 半导体工艺 基础 曲面 氧化硅 芯片 周期
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